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低価格 UVナノインプリント装置
①低残膜、膜厚均一性の高いImpFlexと共通のインプリントエンジン搭載！
②徹底的なコストダウンにより低価格を実現！
③バブル消去ガスプロセス対応！
④多種モールドに対応可能！
⑤豊富なオプションによりアップグレードが可能！
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従来のフォトリソグラフィーに比べ、高微細化、低コスト、高スループットで次世代の微細加工技術として注目を集めるナノインプリントリソグラフィー。本装置は上位機種であるImpFlexをベースに徹底的なコストダウンを行った低価格モデルです。低価格でありながら低残膜と膜厚均一化を実現するインプリントエンジンは上位継承しています。 |
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独自のパラレルメカによる「SOFTステージ」は繊細な転写動作を実現し、最小限の転写欠損、ナノレベルのパターン成形が可能です。
また、新開発LED光源により均一にUVの照射が可能となり、低エッジラフネスを実現しました。
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大気プロセス バブル消去ガスプロセス |
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本装置はバブル消去ガスプロセスに対応可能です(オプション)。
バブル消去ガスプロセスにより大気中インプリントでもバブル欠損の
発生を抑制できます。
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モールドサイズ□10ｍｍから最大90mmまでの転写が可能です。
また、モールド材料は石英の他にオプションでNi電鋳などの他の材料も使用可能です。
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